CARACTERIZAÇÃO ELÉTRICA DE FILMES SEMICONDUTORES DE CO3O4 DEPOSITADOS POR SPUTTERING REATIVO

Autores/as

  • Bruno Carrascosa dos SANTOS Fatec Bauru
  • Wangner Barbosa da COSTA Fatec Bauru
  • Nilton Francelosi AZEVEDO NETO Fatec Bauru

Palabras clave:

magnetron sputtering, dispositivo optoeletrônico, óxido de cobalto

Resumen

O óxido de cobalto (Co3O4) se destaca como um material promissor para o desenvolvimento de dispositivos eletrônicos de baixo custo, alta estabilidade e eficiência energética, tais como células solares e transistores de filme fino. Neste trabalho, investigamos as propriedades estruturais, ópticas, elétricas e fotocondutivas de uma amostra de Co3O4 preparada pelo método de deposição magnetron sputtering reativo. O estudo se concentrou principalmente nas características elétricas e na resposta fotocondutiva do material, com o objetivo de contribuir para o desenvolvimento de novos dispositivos optoeletrônicos com potencial para diversas aplicações tecnológicas.

Publicado

2024-09-24

Cómo citar

SANTOS, B. C. dos, COSTA, W. B. da, & AZEVEDO NETO, N. F. (2024). CARACTERIZAÇÃO ELÉTRICA DE FILMES SEMICONDUTORES DE CO3O4 DEPOSITADOS POR SPUTTERING REATIVO. ncontro o rograma e onitoria as atecs, 1(1), 11. ecuperado a partir de https://publicacoescesu.cps.sp.gov.br/monitoria/article/view/415